原子層沉積（ALD）工藝在 AI 芯片生產中的應用，重點關注在硅片上精確沉積薄原子層
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AIGC原子層沉積（ALD）工藝在 AI 芯片生產中的應用，重點關注在硅片上精確沉積薄原子層
在 AI 芯片制造中，原子層沉積（ALD）工藝至關重要。它專注于在硅片上實現薄原子層的精確沉積，展現了先進技術在微電子制造領域的應用。此工藝涉及到高精度、均勻性等要求，融合了工業工程、自動化等技術。在實驗室的研究中，借助顯微鏡等先進設備，不斷創新，推動著未來微電子電路的發展。
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